
Phổ khối lượng nguyên tử nguồn ion hoá Plasma cao tần cảm ứng (ICP-MS)/ Vũ Đức Lợi, Chu Đình Bính
Tác giả : Vũ Đức Lợi, Chu Đình Bính
Nhà xuất bản : Khoa học Tự nhiên và Công nghệ
Năm xuất bản : 2022
Nơi xuất bản : H.
Mô tả vật lý : 403 tr.: minh hoạ; 24 cm
ISBN : 978-604-357-091-5
Số phân loại : 543.5
Chủ đề : 1. Hoá phân tích. 2. Ion hoá. 3. Phân tích phổ. 4. Phổ nguyên tử. 5. Plasma.
Thông tin chi tiết
Tóm tắt : | Giới thiệu chung về phổ khối lượng nguyên tử nguồn Plasma cảm ứng cao tần; sự hình thành ion trong khí quyển Plasma; các bộ phận đưa mẫu trong ICP-MS; nguồn ion hoá Plasma cao tần cảm ứng; bộ giao diện; hệ hội tụ ion; các kỹ thuật tách ion; phát hiện ion trong MS; các yếu tố ảnh hưởng trong ICP-MS... |
Thông tin dữ liệu nguồn
Thư viện | Ký hiệu xếp giá | Dữ liệu nguồn |
---|---|---|
![]() |
|
https://opac.nlv.gov.vn/pages/opac/wpid-detailbib-id-910468.html |